磁控溅射卷绕真空镀膜设备与蒸发真空卷绕镀膜膜设备相比，生产效率较低、设备成本高，这是由镀膜原理所决定的。但磁控溅射具有镀膜温度低、可任意位置安放多个靶连续镀多层膜、镀膜材料适应范围宽、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点。